ФИЗИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ КОЛИЧЕСТВЕННОГО ОПРЕДЕЛЕНИЯ ФОСФОРА

В отличие от разряда в воздухе при одном и том же режиме воз¬буждения (униполярный искровой разряд с апериодическим кон¬туром: 10 мкф, 30 мкгн, 10 ом, 600 в) площадь зоны поверхности
образца, обработанная разрядом, в аргоне становится прймёрйо в 20 раз больше (60 мм2), в то время как глубина проработки зна¬чительно меньше (0,01 —0,02 мм) [459]. Поступление материала образца в зону разряда происходит из тонкого поверхностного слоя металла. После каждого единичного разряда конденсатора поверхность успевает охладиться, что хорошо иллюстрируется большим количеством кратеров с четко выраженными контурами, получающихся после обыскривания. Несмотря на апериодическую форму разряда, здесь никогда не наблюдается образования рас¬плавленной капли металла (корольков) на поверхности образца, (даже при увеличении емкости до 100 мкф).
На процессы, происходящие в зоне разряда, существенно вли¬яют два основных фактора: кислород, содержащийся в аргоне, и наличие в пробе элементов с большим сродством к кислороду. Это обстоятельство и малая глубина проработки приводят при опре¬деленных условиях к сильному возрастанию роли химических про¬цессов, происходящих на поверхности пробы. Наличие даже не¬значительного количества кислорода в аргоне (0,01%) и кремния в образце приводит к образованию специфической матовой окис-ной пленки на поверхности пробы, которая препятствует нормаль-ному прохождению разряда, существенно уменьшая поступление материала в зону разряда, что в конечном счете приводит к изме¬нению состава излучающего облака.

Страницы: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20